KIC subsidie toegewezen aan betere beeldvorming voor chips

NWO heeft binnen de KIC-call ‘Vraaggedreven Partnerschappen voor Consortia’ subsidie toegewezen voor onderzoek naar efficiëntere productie van nog kleinere computerchips. Onderzoekers van TU Delft en ARCNL werken samen met ASML om computerchips met behulp van elektronen preciezer en sneller te kunnen inspecteren. NWO financiert het onderzoek met bijna 2 miljoen euro, ASML met ruim 2,3 miljoen.

Voorbeeld van de kleinste structuren op een computerchip en de afmetingen die na fabricage nauwkeurig gecontroleerd moeten worden

Nog kleinere en krachtigere halfgeleider-componenten zullen een grote invloed hebben op onder meer kunstmatige intelligentie, geavanceerde draadloze netwerken (5G), de gezondheidszorg, auto’s en het internet der dingen. Snelle, nauwkeurige en precieze beeldvorming tijdens de fabricage van halfgeleiderapparaten is essentieel om kleinere en daardoor krachtigere apparaten te maken. De steeds verdere miniaturisering van halfgeleidercomponenten maakt het noodzakelijk om technieken te vinden die de kleinste details in deze componenten zichtbaar kunnen maken.

In dit project werken de partijent samen om tot een verbeterde beeldvorming te komen van nog kleinere halfgeleidercomponenten. Door gebruik te maken van elektronen in plaats van licht kan de hoogst mogelijke resolutie behaald worden, maar het gebruik van elektronen is nog maar beperkt toepasbaar. De kennis die wordt opgedaan in dit project zal uiteindelijk leiden tot preciezere en snellere inspectie tijdens het productieproces, en daarmee efficiëntere productie van nog kleinere halfgeleidercomponenten.

Inspectie met elektronen

Jacob Hoogendoorn, Associate Professor bij de afdeling Imaging Physics van de TU Delft: “Een grote uitdaging is dat de onderdelen in computerchips nu al zo klein zijn dat we ze nauwelijks nog met gangbare technieken gebaseerd op licht kunnen bekijken en dus kunnen inspecteren. Inspectie met elektronen biedt hiervoor een oplossing, maar kent ook nog grote, fundamentele uitdagingen. Zo is de doorvoersnelheid van inspectie met elektronen microscopen nog veel te laag en leidt belichting met elektronen ook tot schade en artefacten die het moeilijk maken om tot een betrouwbaar beeld te komen.” 

Geef een reactie

Het e-mailadres wordt niet gepubliceerd. Vereiste velden zijn gemarkeerd met *