Advanced Research Centre for NanoLithography start op 1 januari 2014

Het nieuwe onderzoekscentrum zal fundamenteel onderzoek gaan verrichten op het gebied van de nanolithografie, de belangrijkste technologie voor het produceren van computerchips en processoren in PC’s, smartphones en tablets. In eerste instantie richt het centrum zich in het bijzonder op de fysische en chemische processen die cruciaal zijn voor extreem ultraviolet (EUV) lithografie.

ARCNL zal de kennisbasis van de nanolithografie versterken en daarmee een belangrijke bijdrage leveren aan de ontwikkeling van deze technologie, onmisbaar voor innovatie in de wereldwijde halfgeleiderindustrie de komende jaren.

Bart Noordam (vicepresident research ASML) reageert verheugd: "Dit is een prachtig voorbeeld van samenwerking tussen het bedrijfsleven en de wetenschap. We willen fundamenteel onderzoek stimuleren dat kan bijdragen aan het ontwikkelen van nieuwe technologieën voor de halfgeleiderindustrie. We zijn er van overtuigd dat dit in een academische omgeving moet plaatsvinden, waar ideeën vrijelijk worden uitgewisseld en onderzoekers autonoom lange termijn onderzoek verrichten".

Bij Amolf

Het ARCNL gaat in januari van start onder de vleugels van het FOM-instituut Amolf. Het zal in twee jaar uitgroeien tot een zelfstandig onderzoekscentrum op het Science Park in Amsterdam, met zo’n honderd wetenschappers en technici. De partners van ARCNL staan gezamenlijk garant voor een investering van circa 95 miljoen euro in het komende decennium. De gemeente Amsterdam vult dit aan tot 100 miljoen euro. Aan de basisfinanciering van het ARCNL zullen private en publieke partijen ieder vijftig procent bijdragen.

ARCNL valt onder de Stichting FOM. Een ‘Advanced Research Centre’ is een nieuw type samenwerkingsverband, waarmee NWO een impuls geeft aan samenwerking met universiteiten en private partijen. Dit initiatief past uitstekend binnen het topsectorenbeleid van de overheid, bij de Topsector High Tech Systemen en Materialen (HTSM).

Directeur

ARCNL-directeur Joost Frenken zet vanaf 1 januari 2014 de wetenschappelijke koers uit, met als eerste prioriteit het werven van topwetenschappers. Frenken is hoogleraar aan de Universiteit Leiden en leidt daar een onderzoeksgroep op het gebied van de fysica van oppervlakken en grenslagen. Hij is lid van de KNAW en verwierf recent de prestigieuze ERC Advanced Grant. Frenken won de FOM Valorisatie Prijs 2012 voor de wijze waarop hij fundamenteel onderzoek, technologieontwikkeling en het opzetten van nieuwe bedrijven weet te combineren.  

"Frenken is een eminent wetenschapper op het gebied van de oppervlakte- en grenslagenfysica" aldus Vinod Subramaniam (directeur FOM-instituut Amolf). "Hij heeft verschillende prestigieuze prijzen voor zijn onderzoek ontvangen. Bovendien is Frenken zeer bekwaam in het vertalen van fundamenteel onderzoek naar relevante toepassingen, hij heeft daar een ruime ervaring in, evenals in het samenwerken met industrie. We zijn blij dat we een wetenschapper met de statuur van Joost Frenken als directeur van ARCNL kunnen benoemen."