17 feb. 1999
2 minuten
TNO en de Japanse lichtbronspecialist Ushio gaan een strategisch partnerschap aan dat is gericht op de ontwikkeling van extreem ultraviolet (EUV)-lithografie voor de productie van de volgende generatie halfgeleiders. De overeenkomst daartoe is deze week ondertekend.
TNO en Ushio bouwen samen in Delft een nieuwe experimentele belichtings- en analysefaciliteit om door EUV-straling veroorzaakte effecten op EUV-optica en reticules experimenteel te kunnen onderzoeken. De nieuwe faciliteit gaat EBL2 heten en heeft als gemeenschappelijk doel inzicht te krijgen in de contaminatie-effecten op oppervlakken bij extreme UV-straling en onder realistische omstandigheden zoals die worden voorzien in de roadmap voor nanolithografische systemen. Hiermee kunnen TNO en Ushio de ontwikkeling van systemen, maskers en membranen (‘pellicles’) versnellen.
De EUV-bron van Ushio zal gepulseerd EUV aanbieden in een goed gecontroleerde omgeving die dezelfde omstandigheden biedt als lithografische systemen. Het transport en het hanteren van de monsters wordt geautomatiseerd en de mate van extreme reinheid zal voldoen aan de meest actuele normen voor de productie van halfgeleiders met EUV.
State-of-the-art
De wedloop om steeds kleinere verbindingen tussen chips blijft zich ontwikkelen. Dit vraagt om een grondig inzicht in, en een correcte toepassing van, de fysica en chemie van de interactie tussen materialen en fotonen. Het partnerschap tussen Ushio en TNO en de gezamenlijke state-of-the-art onderzoeksfaciliteit is bedoeld om het gedrag van componenten en materialen voor de verwerking van halfgeleiders onder EUV-licht te karakteriseren en te analyseren.
"De basis voor dit initiatief is een strategisch samenwerkingsverband tussen TNO en Ushio", aldus CEO Matsubara van Ushio Europe. "Dit gezamenlijke project bouwt voort op de bewezen technische expertise op het gebied van de ontwikkeling en productie van EUV-bronnen van Ushio enerzijds en de ervaring en het innoverend vermogen van TNO op het gebied van contaminatiebeheersing op nanoschaal anderzijds, met als doel oplossingen te ontwikkelen die voldoen aan de uitdagingen van morgen."
"Binnen de samenwerking tussen TNO en Ushio vullen onze sterke punten en expertise die relevant zijn voor de ontwikkeling van de volgende generatie halfgeleiderapparatuur elkaar aan", aldus Arnold Stokking, managing director van TNO Industrie. "Het is een eer en een genoegen om een toonaangevende speler binnen de industrie op het gebied van technologie voor de fabricage van halfgeleiderapparatuur als partner te hebben die de programma’s van het International Center for Contamination Control (ICCC) van TNO versterkt en de ontwikkeling en de prestaties van apparatuur voor de halfgeleiderindustrie versnelt."
Ushio
Het in 1964 opgerichte Ushio Inc. (Tokio) is een toonaangevend producent van lichtbronnen, zoals lampen, lasers en led’s, die een breed spectrum uitzenden, van ultraviolet tot onzichtbaar infrarood, plus optische apparatuur en producten voor de filmindustrie die gebruikmaken van dergelijke lichtbronnen. Daarnaast produceert het bedrijf elektronica (waaronder halfgeleiders, flatscreens en elektronische onderdelen) en beeldapparatuur (waaronder digitale projectors en verlichting). Veel van de producten van het bedrijf hebben een groot marktaandeel. Sinds enkele jaren is Ushio ook actief op het gebied van de levenswetenschappen, waaronder de geneeskunde en de milieuwetenschap.
Anderen lazen ook
