Nieuwe generatie nano-elektronica dichterbij door FOM-subsidie

Onderzoek naar oxidelaagjes en hun toepassing krijgt 2,9 miljoen euro van FOM, de Stichting voor Fundamenteel Onderzoek der Materie. Aan het onderzoek werken wetenschappers van het High Field Magnet Laboratory (HFML) van de Radboud Universiteit Nijmegen samen met vier andere Nederlandse universiteiten (UT, UvA, LEI, TUD).

Het onderzoek gaat over metaaloxides: verbindingen tussen metalen en zuurstof. Meestal geleiden die geen stroom, maar als je verschillende metaaloxides in laagjes op elkaar stapelt, blijken de grensvlakken tussen die laagjes soms wel te geleiden. Dit maakt de oxidelaagjes geschikt als halfgeleider in elektronica. Het voordeel is dat ze gebruikt kunnen worden voor elektronische schakelingen met afmetingen kleiner dan zo’n tien nanometer.

Toepassingen

De materialen worden door onderzoekers van de Universiteit Twente gemaakt. Het Nijmeegse team onderzoekt vervolgens de magnetische, elektronische en optische eigenschappen van de materialen in de hoge magneetvelden van het HFML. Ook zullen de onderzoekers in Nijmegen de mogelijkheden gaan verkennen om de oxidelaagjes toe te passen in energiezuinige elektronische apparaten.

Van het onderzoeksgeld gaat ruim vijf ton naar het HFML. Hiervan zullen twee promovendi worden aangesteld onder leiding van dr. Uli Zeitler en dr. Alix McCollam van de Radboud Universiteit. Het onderzoeksprogramma loopt van 2014 tot 2017.

Meer informatie
Over het programma
Over het HFML