ASML kiest RUG voor materialen, stromingsprocessen en regeltechniek

De Rijksuniversiteit Groningen (RUG) en ASML gaan intensiever samenwerken op gebieden als geavanceerde materialen, stromingsprocessen en geavanceerde regeltechniek, die van belang zijn bij de ontwikkeling van toekomstige technologieën voor de vervaardiging van computerchips.

De samenwerking die al jarenlang loopt via het NWO-instituut ARCNL, waarbij onder meer de Zernike-LEIF ionenbundelfaciliteit van de RUG wordt ingezet, heeft kennis opgeleverd voor de EUV (extreme ultraviolet) lithografietechnologie van ASML. Onlangs is deze samenwerking verder geïntensiveerd met een nieuw traject rond de volgende generatie belichtingstechnologie voor chips, waarbij met licht van een kortere golflengte nog fijnere patronen op chips kunnen worden aangebracht. 

Daarnaast wordt ook op andere terreinen samengewerkt en zijn er nieuwe gezamenlijke onderzoeksprojecten gestart op het gebied van materialen, vloeistof- en stromingsprocessen, coatings en regeltechniek. Dit onderzoek moet een rol gaan spelen bij de ontwikkeling van toekomstige ASML-machines.