Imec en Coventor simuleren 7-nm chipprocessen

Om te komen tot een 7-nm technologie moeten zowel de layout als de procestechnologie worden geoptialiseerd. Met het SEMulator3D platform, van Coventor proberen technici van Imec en Coventor met behulp van simulatie het leerproces te verkorten en de ontwikkelkosten te verlagen. Het SEMulator3D platform is een geïntegreerde groep nauwkeurige en krachtige modelleer-tools. Daarmee kunnen de effecten van productiekeuzes in software.  interactief worden gemodelleerd en gesimuleerd, nog voordat er kostbare testchips zijn gemaakt.

Proces- en integratie-experts bij Imec hebben de simulatie van optische lithografie gekoppeld aan het virtuele productieplatform SEMulator3D om de schaling naar 7 nm te onderzoeken van FinFET’s. Daarbij vergelijken ze marginale effecten in het procesvenster voor diverse hooggeïntegreerde SRAM-ontwepen, gebruikmakend van Spacer Assisted Quadruple Patterning en ofwel meervoudige immersie ofwel EUV-patroonvorming.

An Steegen, senior vice president procestechnologie bij Imec zegt: "Een virtueel productieplatform maakt het mogelijk om processen aan elkaar te knopen, nog voordat al die individuele processen beschikbaar zijn. SEMulator3D geeft ons daar een duidelijk en nauwkeurig beeld van en dient als geïntegreerd platform om de hele variëteit aan elementen van een  geavanceerd proces samn te brengen, nog voordat er met echt silicium wordt gewerkt."