RLE20 interferometer verbetert prestaties van nieuwste e-beam tool

Geplaatst op 15 juni 2012 om 13:54 uur Het VB300 elektronenbundel lithografie apparaat van Vistec Lithography is de opvolger van de zeer succesvolle in 1993 door toen nog Leica Microsystems geïntroduceerde VB6 serie. Bij het ontwerp van het nieuwe apparaat stelde Vistec vast dat een vermindering van de ruisgerelateerde positiefouten de performance significant zou verbeteren. Door een combinatie van een verbeterde mechanische stijfheid en integratie van het Renishaw RLE20 encodersysteem, dat is gebaseerd op een differentiële interferometer, zijn deze fouten nu kleiner dan 3 nm.

© Engineersonline.nl